5月20日，荷兰ASML公司制造新一代EUV光刻机，登上热搜。

EUV，即ASML最先进的机器所使用的光波波长，指的是电磁波谱中波长从121纳米到10纳米的电磁辐射所在的频段。ASMLCEO彼得·温宁克（PeterWennink）告诉媒体，过往10年间该公司已出售大约140台EUV光刻机，单价约2亿美元一台。

据报道，ASML正制造新款极紫外光线（EUV，extremeultraviolet）光刻机，预计每台售价约4亿美元，或将在2023年上半年完成制造，并有望在2025年用于芯片供应商。

为了实现在2nm时代制造更精细的半导体，我们需要具有高产能和高数值孔径(High-NA)的下一代EUV曝光系统。

据悉，该光刻机重达200多吨，有“双层巴士”那么大。据报道，ASML正制造新款极紫外光线（EUV）光刻机，预计每台售价约4亿美元，或将在2023年上半年完成制造，并有望在2025年用于芯片供应商。

ASML希望从2024年起在客户工厂安装该机器。ASML宣布，即将推出的EUV已经有五家以上的客户订购。该机器有望使芯片电路减少66%。

ASML与imec正在讨论更深度的合作，未来推出1nm以内的光刻机。且2036年可制作0.2nm芯片。

下图为imc提供芯片制程路线图

接着看路线图，IMEC预计在2028年实现A10工艺，也就是1nm节点了，2030年是A7工艺，之后分别是A5、A3、A2工艺，2036年的A2大概相当于0.2nm节点了。

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